Qu'est-ce que « Dépôt chimique en phase vapeur » ?

Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) fait croître un film solide sur une surface chauffée par la réaction de précurseurs gazeux à son contact, comme le silicium à partir du silane, $\ce{SiH4 -> Si + 2H2}$, ou le diamant à partir de méthane et de dihydrogène.