Yang disebut deposisi uap kimia (CVD) adalah cara menumbuhkan lapisan padat pada permukaan yang dipanaskan melalui reaksi prekursor-prekursor gas di sana, misalnya silikon dari silana, , atau intan dari metana dan hidrogen.
Kimia · Glosarium
Kimia · Glosarium
Yang disebut deposisi uap kimia (CVD) adalah cara menumbuhkan lapisan padat pada permukaan yang dipanaskan melalui reaksi prekursor-prekursor gas di sana, misalnya silikon dari silana, , atau intan dari metana dan hidrogen.